除了我们都知道的光刻机，半导体设备出产中还需要各种设备，国内的中微半导体设备公司现已可以出产高端刻蚀设备，其5nm刻蚀机现已批量出产，用于台积电的5nm出产线中。
中微半导体上周末发布了2019年财报，全年完成经营收入19.47亿元，同比增加18.77%；完成归母净利润1.89亿元，同比增加107.51%。
依据该公司年报，中微公司开发的高端刻蚀设备已运用在世界闻名客户65纳米到7纳米的芯片出产线上。
一起，公司依据先进集成电路厂商的需求，已开宣布5纳米刻蚀设备用于若干要害步骤的加工，并已取得职业抢先客户的批量订单——尽管中微没有明说，可是这家客户便是台积电，也只要他们量产了5nm工艺。
现在公司正在合作客户的实在需求，开发新一代刻蚀设备和包含更先进大马士革在内的刻蚀工艺，可以包括5纳米以下刻蚀需求和更多不同要害使用的设备。
在3D闪存范畴，中微半导体电容性等离子体刻蚀设备可使用于64层的量产，一起依据存储器厂商的需求正在开发新一代可以包括128层要害刻蚀使用以及相对应的极深邃宽比的刻蚀设备和工艺。
此外，中微公司的电理性等离子刻蚀设备已在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的出产线上量产。
依照每个客户的技能发展需求，正在进行下一代产品的技能研制，以满意7纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3D NAND芯片等产品的ICP刻蚀需求，并进行高产出的ICP刻蚀设备的研制。
编 辑：章芳